一、斯派超油料光譜儀的技術(shù)特點(diǎn)

  （一）技術(shù)優(yōu)勢(shì)

  1、專(zhuān)門(mén)為工業(yè)用戶設(shè)計(jì)；

  2、滿足ASTM D6595 和ASTM D6728標(biāo)準(zhǔn) ；

  3、被測(cè)油樣不需要制備；

  4、不需要?dú)怏w或者其他特殊設(shè)施，只需要電源； 

  5、30秒鐘完成分析，標(biāo)準(zhǔn)配置同時(shí)分析24種元素；

  6、操作簡(jiǎn)便，對(duì)使用者要求低；

  7、結(jié)實(shí)耐用，便于搬運(yùn)，可用于車(chē)載檢測(cè)平臺(tái)。 

  （二）油料光譜儀ASTM標(biāo)準(zhǔn)詳解

  1、ASTM D6595：旋轉(zhuǎn)盤(pán)電極原子發(fā)射光譜法測(cè)定在用潤(rùn)滑油及液壓油中的金屬磨粒及污染物的成分及濃度。（ASTM D6595是世界上*在用潤(rùn)滑油的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)）

  2、特定磨損金屬出現(xiàn)或者濃度升高都代表設(shè)備出現(xiàn)早期磨損。污染元素會(huì)導(dǎo)致磨損和潤(rùn)滑油降解,污染元素濃度顯著升高表示有異源物質(zhì)進(jìn)入，例如防凍劑或者沙石。元素分析的方法能夠得到特定元素相對(duì)于時(shí)間或者距離的趨勢(shì)，幫助客戶采取適當(dāng)?shù)拇胧╊A(yù)防發(fā)生重大問(wèn)題或者設(shè)備失效。”(摘自ASTM D 6595)

  3、ASTM D6728：旋轉(zhuǎn)盤(pán)電極原子發(fā)射光譜法測(cè)燃?xì)鉁u輪和燃油發(fā)動(dòng)機(jī)中污染物的成分及濃度。 

二、ICP光譜儀的特點(diǎn)

  （一）優(yōu)勢(shì)

  1、低的檢測(cè)限； 

  2、高的準(zhǔn)確度與精度； 

  3、基質(zhì)效應(yīng)小。 

  （二）劣勢(shì)

  1、需要使用氣體（氬氣和氮?dú)猓?天一罐氣，消耗大）； 

  2、效率低，需要做消解，制樣速度慢，一個(gè)樣需要30-50分鐘，大多數(shù)潤(rùn)滑油需要進(jìn)行樣品制備；

  3、需要恒溫、低濕以及無(wú)塵的環(huán)境需要實(shí)驗(yàn)室環(huán)境； 

  4、操作和維修復(fù)雜；

  5、 ICP不適用于核電廠現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)；

  6、僅能直接處理0-3μm的顆粒。

  （三）ICP內(nèi)容詳解

  1、ICP主要是在氬氣氛中工作的，氬氣的純度甚至?xí)绊慖CP的終結(jié)果。氬氣用量約10L/min，每罐氬氣能夠使用3-4個(gè)小時(shí)。對(duì)于很多偏遠(yuǎn)地區(qū)客戶，非常不方便。 

  2、使用ICP需要進(jìn)行樣品前制備，主要基于以下幾個(gè)方面： 

  （1）留在進(jìn)樣樣品中的顆?？赡懿糠只蛘?堵塞噴霧器，導(dǎo)致分析結(jié)果差或者分析失敗。阻塞的噴霧器非常難清洗。

  （2）ICP光譜分析的試樣為溶液狀態(tài)，溶液的粘度、比重及表面張力等均對(duì)霧化過(guò)程、霧滴粒徑、氣溶膠的傳輸以及溶劑的蒸發(fā)等都有影響，潤(rùn)滑油的高粘滯性會(huì)在樣品的傳輸中產(chǎn)生影響。

  （3）未經(jīng)處理的樣品其粘度和霧化效率均與水溶液標(biāo)準(zhǔn)有差異。 

  3、所有進(jìn)入儀器的溶液都需要進(jìn)行過(guò)濾，高粘度的溶液在檢測(cè)前需要稀釋?zhuān)瑯悠分苽?，不論是過(guò)濾還是稀釋?zhuān)瑫?huì)影響測(cè)試的精度，樣品制備的時(shí)間一般超過(guò)30分鐘 

  4、ICP含有很多易損配件，比如霧化器。霧化器非常容易阻塞，細(xì)小毛細(xì)管的堵塞和出口周?chē)纬傻某练e物都會(huì)造成堵塞。霧化器阻塞會(huì)造成結(jié)果穩(wěn)定性下降和漂移，霧化器非常難清理，經(jīng)常性的阻塞會(huì)非常浪費(fèi)時(shí)間。而且，ICP需要在氬氣氛圍下工作，所以在使用和維修上更加費(fèi)心。 

  5、因?yàn)閺?fù)雜的系統(tǒng)，在使用過(guò)程中需要?dú)鍤夥諊鸵讚p的配件，因此ICP只適用于實(shí)驗(yàn)室：它必須遠(yuǎn)離震動(dòng)，所處環(huán)境應(yīng)該無(wú)塵、低濕度，灰塵濃度（低于35000000顆粒/ m3,低，溫度控制在20-25℃）